最小スペースで最高の精度を実現

今日のハイテク業界における位置決め用途の主な課題には、長期的な安定した位置決め、ナノメートル単位で再現性の高い動作、コンパクトな設計、狭い設置スペースでの使用に適した柔軟な構成などがあります。 わずかな偏差でも、機能性を損なう可能性があります。 そのため、分解能、安定性、統合機能に対する要求は高まっています。 B-421 BIX小型リニアステージは、これらの技術要件を確実に満たすように開発されています。

主な利点：
 

• 卓越した精度： 最小インクリメンタルモーション：10 nm
• 安定性： セルフロッキング機構により、長期間にわたって優れた位置安定性を実現
• 耐久性： 優れた最大耐荷重と駆動力
• 省スペースと柔軟性： コンパクト設計で、多軸構成にスタッキング可能
• 正確な位置決め： 優れた分解能と再現性

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今日の高精度システムの成功は、光学部品をナノメートル単位で安定して位置決めできるかどうかにかかっています。 ビーム操作における一般的な要件には、ミラー、絞り、レンズの長期的な位置決めと、再現性の高いビームステアリングに必要な、ナノメートル単位の精密なアライメントなどがあります。 ナノメートル単位の高精度な動作を実現し、多軸セットアップに柔軟に統合できる、コンパクトな位置決めシステムが求められています。 これは、半導体業界におけるオーバーレイ計測や、TIRFやSTEDなどの超解像顕微鏡を用いた顕微鏡検査におけるビーム品質にとって、特に重要です。