入射臨界角の設定
入射臨界角を設定するには、輻射ケージをずらしてTIRF蛍光刺激のレーザー光をミラーおよびレンズに合わせ、特定の角度の対象物のエッジに垂直に対するようにします。
これは、2つの>> Q-545 Q-Motion®高精度リニアステージを組み合わせることで可能になります。このリニアステージは、圧電慣性動作が優れているため分解能をナノメートルの精度で微細にポジショニングでき、コンパクトである上に安価です。コントロールは、>> E-872.401 PIShift Driver Electronicsによって行われます。
サンプルの高精度ポジショニング
PILine® XYステージは、平面上のサンプルをマイクロメートルの10倍の精度で素早く正確にポジショニングし、>>C-867 PILine®モーションコントローラーでコントロールされます。
非常に薄型で高精度のPInano® XYZピエゾシステムは、PILine®ステージ>> P-545.3R8Sなどにマウントできます。3方向(x、y、z)すべてで1ナノメートル精度のポジショニングが可能です。
詳細な分析情報と露出度の高い画像を得るために、X方向およびY方向にナノメートル単位で段階的にサンプル全体をスキャンします。モーションがきわめて微細なので、Z方向への立体測定が可能になり、焦点をずらすことができます。さらに、非常に高速で信頼性の高い>>E-727コントローラーにより、PInano®のポジショニングノイズは小さく抑えられます。
ダウンロード
パンフレット
Microscope Stage Configurator
Sample Stages and Holders for Inverted Microscopes
日付 / バージョン
BRO70E
pdf - 3 MB
英語
パンフレット
Nanopositioning for Microscopy
Fast, Compact, to the Nanometer
日付 / バージョン
BRO28E R5D
pdf - 8 MB
日付 / バージョン
BRO28CN 2018-12
pdf - 15 MB